常规混凝沉淀工艺对阴离子表面活性剂的去除研究
论文类型 | 技术与工程 | 发表日期 | 2008-02-01 |
来源 | 《给水排水》2004年07期 | ||
作者 | 任刚,崔福义,林涛,安全 | ||
关键词 | 阴离子表面活性剂(LAS) 去除 混凝沉淀 混凝剂 相关性 | ||
摘要 | 随着阴离子表面活性剂(LAS)在民用和工业上的广泛应用,由此带来的水污染问题也日益加剧,对供水安全造成了很大威胁.针对目前大部分水厂仍采用混凝沉淀常规水处理工艺,考察了常规混凝沉淀工艺对LAS的去除效果.以Al2(SO4)3,PAC,FeCl3,PFS为混凝剂,非离子PAM为助凝剂进行了试验,结果表明混凝沉淀对LAS有一定的去除效果,而且有机物和LAS的去除有一定相关关系.但浊度与LAS的去除相关性较差.试验条件下对于LAS去除最佳混凝方案是投加量为40 mg/L的FeCl3.相同水质条件下铁盐混凝剂在除 |
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